Документ взят из кэша поисковой машины. Адрес
оригинального документа
: http://www.chemport.ru/data/chemipedia/article_487.html
Дата изменения: Unknown
Дата индексирования: Tue Apr 12 04:37:31 2016
Кодировка: Windows-1251
БОРА КАРБИДЫ. Бор образует ряд карбидов. Надежно установлены
составы двух из них - В4С (или В12С3)
и В13С2.
Карбид В4С - черные кристаллы с ромбоэдрич. решеткой (а=
0,5598
нм, с - 1,2120 нм, z = 3, пространств. группа R3т);
разлагается
выше 2450њС; плотн. 2,52 г/см3; Сњр53,09 Дж/(моль*К);
105 кДж/моль,
- 62 кДж/моль; S298 27,11 Дж/(моль*К); давлениепара над твердым
в-вом 0,091 Па (300 К), 8,2 Па (2522 К); теплопроводность 121,4 Вт/(м*К)
при 300 К и 62,8 Вт/(м*К) при 970 К; температурный коэф. линейного расширения
4,5*10-6 К-1 (300-1100 К); микротвердость 49,1 ГПа;
модуль упругости 450 ГПа; 0,001-0,1
Ом м ( ~ 20њС). Полупроводник р-типа; ширина запрещенной зоны 1,64 эВ (выше
1870 К). Ниже 1,28 К переходит в сверхпроводящее состояние. Для В4С
характерна область гомогенности в пределах составов В4С-В65С.
Карбид В4С - одно из наиб. устойчивых соединений. Окисляется
на воздухе выше 600 њС. Не раств. в воде и минеральных кислотах и их смесях,
разлагается кипящими растворами щелочей. Не взаимод. с S, Р и N2
до ~ 1250њС, реагирует с С12 ок. 1000њС с образованием ВС13
и С. Получают В4С главным образом восстановлением В2О3
углеродом (сажей) при 1900-2150њС. Он также образуется по перитектич. реакции
в системе бор-углерод. Компактные изделия из бора карбиды получают горячим прессованием
(2000-2450њС, 20-35 МПа).
Применяют В4С для изготовления абразивных и шлифовальных
материалов, в кач-ве полупроводников или диэлектриков; он содержится в
наплавочных составах для повышения стойкости металлич. пов-стей к мех.
воздействию. Карбид, обогащенный изотопом 10В, - поглотитель
нейтронов в ядерных реакторах.
Карбид В13С2-черные кристаллы с ромбоэдрич. решеткой
(а
= 0,5630 нм, с = 1,2190 нм, z = 3, пространств. группа RЗm);
т. пл. 2460њС; плотн. 2,46 г/см3; температурный коэф. линейного
расширения 5,5*10-6 К-1 (300-1100 К); микротвердость
55,9 ГПа. Полупроводник и-типа.
Лит.: Косолапова Т. Я., Карбиды, М., 1968; Boron and refractory
borides, ed. by V.I. Matkovich, v. 1, B.-N.Y., 1977, p. 310-30. A.H.
Пилянкевич.